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MEHR LESENDer Grund warum PLA biologisch abbaubare nicht gewebte Stoff hat eine gute UV -Stabilität hauptsächlich auf die molekularen Struktureigenschaften von PLA, die Materialmodifikationstechnologie, die Zugabe von UV -Stabilisatoren und die strukturellen Eigenschaften des nicht verwobenen Gewebes selbst zurückzuführen. Diese Faktoren arbeiten zusammen, um ihre Leistung in der Außen- oder langfristigen Lichtumgebung stabil zu halten und die photooxidativen Verschlechterung zu verzögern.
Die PLA-Molekülstruktur enthält Esterbindungen und Kohlenstoffoxygen-Doppelbindungen, und diese chemischen Gruppen haben eine schwache UV-Absorptionskapazität, sodass die PLA selbst eine bessere UV-Resistenz aufweist als viele andere biologische Materialien. Eine reine PLA kann jedoch unter langfristiger UV-Bestrahlung immer noch Photoxidationsreaktion unterzogen werden, was zu einem molekularen Kettenbruch und einer Abbau von Materialleistungen führt. Um seine Wetterresistenz weiter zu verbessern, werden normalerweise eine Copolymerisationsmodifikation und die Nano-Komposit-Technologie verwendet. Beispielsweise kann die Einführung von Monomeren, die die Benzolringstruktur in den Syntheseprozess von PLA enthalten, die Stabilität der molekularen Kette verbessern und die UV-induzierten Abbaureaktionen verringern. Darüber hinaus kann die Zugabe von UV-Abschirmentzügen wie Nano-Titan-Dioxid oder Nano-Zincoxid UV-Licht effektiv reflektieren oder streuen und das direkte Photo-Abbau-Risiko von PLA reduzieren.
Während des Produktionsprozesses kann der Wetterresistenz von PLA -Nicht -Tupfen auch durch Zugabe spezialisierter UV -Stabilisatoren verbessert werden. UV -Absorber können UV -Strahlung absorbieren und in harmlose Wärmeenergie umwandeln, wodurch die Schädigung der PLA verringert wird. Zusätzlich können behinderte Aminlichtstabilisatoren die durch UV -Strahlen ausgelöste Kettenreaktion freie Radikale hemmen. Bestimmte anorganische Füllstoffe wie Calciumcarbonat oder Talkumpulver können nicht nur die Produktionskosten senken, sondern auch die direkte Exposition von PLA durch Streuung von UV -Strahlen reduzieren, wodurch die UV -Resistenz weiter verbessert wird.
Die poröse Faserstruktur von PLA -Nontatern verbessert auch die UV -Stabilität in gewissem Maße. Die Lücken zwischen den Fasern und der komplexen Netzwerkstruktur können etwas UV -Licht verstreuen, die Penetrationstiefe von UV -Strahlen in das Material reduzieren und somit die Gesamtfotoabbaurate verringern. Dieses strukturelle Merkmal lässt PLA-Verloss in Außenanwendungen, wie z.
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